オゾン水による各不純物除去メカニズム
オゾン水によるパーティクル・金属・有機物除去メカニズム
オゾン水処理時間と酸化膜厚の関係
【結果】
ゾン水洗浄によりSi基板表面上に最大0.8nm厚さの酸化膜が形成される。
オゾン水処理レシピとパーティクル除去率の関係
【結果】
オゾン水洗浄は短時間10秒にもかかわらず繰り返し処理を行うとパーティクル除去率は良好である。
オゾン水洗浄によるガラス基板上有機物の除去結果
【結果】
オゾン水洗浄により各種基板表面上有機物が除去出来た。
出展:オゾンハンドブック